氣相沉積爐的特點(diǎn)是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳?xì)錃怏w為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應(yīng)，例如，金屬鹵化物、有機(jī)金屬、碳?xì)浠衔锏鹊臒岱纸?，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以析出金屬、氧化物、碳化物等無機(jī)材料的方法。這種技術(shù)開始是作為涂層的手段而開發(fā)的，但目前，不只應(yīng)用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應(yīng)用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導(dǎo)體薄膜等，是一個頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。 　　設(shè)備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節(jié)能方面做出了貢獻(xiàn)，作為一種新技術(shù)是大有前途的。 　　下面小編詳細(xì)列舉幾條爐子的特點(diǎn)，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。

　　真空甩帶爐是利用什么來工作的 　　真空甩帶爐是制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料（如非晶材料）的專用設(shè)備。該設(shè)備除具備感應(yīng)爐的全部特點(diǎn)外，還具有制備大塊非晶和金屬薄片的功能，適用于各種非晶和微晶材料的研究和驗(yàn)證。它廣泛應(yīng)用于新型稀土永磁非晶軟磁材料和納米材料的科學(xué)開發(fā)和應(yīng)用研究。 　　我們見到的真空甩帶爐由真空室、甩帶裝置、坩堝自動升降裝置、氣路系統(tǒng)、機(jī)殼和熔煉電源等組成。是利用真空感應(yīng)熔煉法，把坩堝封閉在真空室中，利用電磁感應(yīng)產(chǎn)生的渦流作為熱源，在真空或惰性氣體狀態(tài)下把合金(或是導(dǎo)電材料)原料進(jìn)行脫氣、熔化處理，通過坩堝傾爐系統(tǒng)澆鑄，經(jīng)過中間包在水冷輥上急速凝固后形成薄片，再在水冷盤上進(jìn)行慢速降溫，在撥鑿的攪拌下，把合金降到30℃左右，形成大不薄厚均勻的合金薄片的一種熔煉設(shè)備。下面分別了解一下它吧。 　　1、真空室：真空甩帶爐采用304板組焊而成并做表面處理，爐門上裝有大尺寸觀察窗，既滿足高真空要求，又便于觀察實(shí)驗(yàn)情況。 　　2、甩帶裝置：采用伺服電機(jī)驅(qū)動，無極調(diào)速，密封采用磁流體密封裝置，銅棍拆卸方便。轉(zhuǎn)動平穩(wěn)，噪音極低。 　　3、坩堝自動升降系統(tǒng)：采用伺服電機(jī)升降，可根據(jù)不同材料設(shè)備不同噴帶參數(shù)。 　　4、氣路系統(tǒng)：真空甩帶爐由電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成， 　　5、機(jī)殼：結(jié)合國內(nèi)外設(shè)備外觀經(jīng)驗(yàn)，根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn)，設(shè)計出合理機(jī)殼，外表噴塑處理； 　　6、熔煉電源：真空甩帶爐定制的專用熔煉電源，操作簡單，結(jié)構(gòu)小巧； 　　7、觸摸屏+PLC控制，可視化操作界面 　　真空熔煉爐是生產(chǎn)合金(永磁材料)的專用設(shè)備，是先進(jìn)鑄片工藝取代傳動鑄錠工藝的理想替代設(shè)備。